Periodo de publicación recogido
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Water-jet-assisted diamond disk dressing characteristics of CMP polishing pad.
M.Y. Tsai, W.-Z. Yang
International journal of advanced manufacturing technology, ISSN 0268-3768, Vol. 62, Nº. 5-8, 2012, págs. 645-654
Effect of CMP conditioner diamond shape on pad topography and oxide wafer performances.
M.Y. Tsai, W.K. Chen
International journal of advanced manufacturing technology, ISSN 0268-3768, Vol. 55, Nº. 1-4, 2011, págs. 253-262
Evaluation of test methods for silicon die strength.
M.Y. Tsai, C.H. Chen
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 48, Nº. 6, 2008, págs. 933-941
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