Periodo de publicación recogido
|
|
|
High-Rate Oblique Deposition of SiO2 Films Using Two Sputtering Sources
Y. Hoshi
IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 91, Nº 10, 2008, págs. 1644-1648
Y. Hoshi, H. M. Shimizu
IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 87, Nº 2, 2004, pág. 212
High Rate Sputter-Deposition of TiO~2 Films Using Oxide Target
Y. Hoshi, T. Takahashi
IEICE transactions on electronics, ISSN 0916-8524, Vol. 87, Nº 2, 2004, pág. 227
Esta página recoge referencias bibliográficas de materiales disponibles en los fondos de las Bibliotecas que participan en Dialnet. En ningún caso se trata de una página que recoja la producción bibliográfica de un autor de manera exhaustiva. Nos gustaría que los datos aparecieran de la manera más correcta posible, de manera que si detecta algún error en la información que facilitamos, puede hacernos llegar su Sugerencia / Errata.
© 2001-2024 Fundación Dialnet · Todos los derechos reservados