OBIRCH analysis of electrically stressed advanced graphic ICs.

• Autores: J.Y. Liao, H.L. Marks, F. Beaudoin
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 9-11, 2007, págs. 1565-1568
• Idioma: inglés
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