Dielectric charging in silicon nitride films for MEMS capacitive switches: Effect of film thickness and deposition conditions.

• Autores: U. Zaghloul, G. Papaioannou, F. Coccetti, P. Pons, R. Plana
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 49, Nº. 9-11, 2009, págs. 1309-1314
• Idioma: inglés
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