Y. Raskin

• Artículos de revistas (2)

• Artículos de revistas

  • Peculiarities of hole trapping in Al2O3-SiO2 gate dielectric stack

    M. Lisiansky, Y. Raskin, Y. Roizin, Bori Meyler, S. Yofis, Y. Shneider

    Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Nº. 79, 2017, págs. 265-269

    • Resumen
    

  • Reliability of HTO based high-voltage gate stacks for flash memories.

    Y. Raskin, A. Salameh, D. Betel, Y. Roizin

    Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 47, Nº. 4-5, 2007, págs. 615-618

    

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