Periodo de publicación recogido
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Behavior of hot carrier generation in power SOI LDNMOS with shallow trench isolation (STI).
J. Liao, C.M. Tan, G. Spierings
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 49, Nº. 9-11, 2009, págs. 1038-1043
Ferrolectric thin films for memory applications
P.K. Larsen, M. de Keigser, G. Spierings
Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio, ISSN 0366-3175, Vol. 34, Nº. 5-6, 1995, págs. 322-330
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