Analysis of deep submicron VLSI technological risks: A new qualification process for professional electronics.

• Autores: F. Molière, B. Foucher, P. Perdu, A. Bravaix
• Localización: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Vol. 49, Nº. 9-11, 2009, págs. 1381-1385
• Idioma: inglés
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