Wencel de la Cruz Hernández

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  • Deposit of AlN thin films by nitrogen reactive pulsed laser ablation using an Al target

    F. Chale Lara, M. Zapata Torres, F. Caballero-Briones, Wencel de la Cruz Hernández, N. Cruz González, C. Huerta Escamilla, M.H. Farías

    Revista Mexicana de Física, ISSN-e 0035-001X, Vol. 65, Nº. 4, 2019, págs. 345-350

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  • TiO2 and Al2O3 ultra thin nanolaminates growth by ALD; instrument automation and films characterization

    H. Tiznado, D. Domínguez, Wencel de la Cruz Hernández, R. Machorro, M. Curiel, G. Soto

    Revista Mexicana de Física, ISSN-e 0035-001X, Vol. 58, Nº. 6, 2012, págs. 459-465

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  • Corrosión de dispositivos electrónicos por contaminantes atmosféricos en interiores de plantas industriales de ambientes áridos y marinos

    Gustavo López Badilla, Hugo Tiznado Vázquez, Gerardo Soto Herrera, Wencel de la Cruz Hernández, Benjamín Valdez Salas, Michael Schorr Wiener, Roumen Zlatev

    Nova scientia, ISSN-e 2007-0705, Vol. 3, Nº. 5, 2010, págs. 11-28

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  • Caracterización de películas delgadas de nitruro de aluminio (AIN) fabricadas por la técnica de erosión iónica

    Manuel García Méndez, Santos Morales Rodríguez, Wencel de la Cruz Hernández, Luciano Eliézer Ramírez Vidaurri

    CIENCIA-UANL, ISSN-e 2007-1175, ISSN 1405-9177, Vol. 11, Nº. 3, 2008

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  • Characterization of ALN thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering

    M. García Méndez, Santos Morales Rodríguez, R. Machorro, Wencel de la Cruz Hernández

    Revista Mexicana de Física, ISSN-e 0035-001X, Vol. 54, Nº. 4, 2008, págs. 271-278

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