pág. 468
pág. 479
pág. 484
R. Terauchi, K. Hisano, H. Ishikuro, S. Kousai, H. Kobayashi, H. Majima, T. Tanzawa, K. Agawa, H. Shibayama
pág. 490
pág. 496
pág. 502
pág. 509
Dynamic Voltage and Frequency Management for a Low-Power Embedded Microprocessor
M. Nakai, T. Meguro, Takahiko Kondo, A. Hashiguchi, H. Kawahara, K. Kumano, M. Shimura, T. Seki, S. Akui, K. Seno
pág. 520
pág. 528
pág. 536
pág. 544
pág. 552
pág. 559
pág. 570
pág. 576
pág. 582
Dynamic Power-Supply and Well Noise Measurements and Analysis for Low Power Body Biased Circuits
S. Hirano, H. Tsujikawa, K. Shimazaki, M. Nagata, T. Okumoto
pág. 589
pág. 597
A 13.56 MHz CMOS RF Identification Passive Tag LSI with Ferroelectric Random Access Memory (INVITED)
pág. 601
pág. 608
The Umbrella Cell: A High-Density 2T Cell for SOC Applications
pág. 614
Embedded Low-Power Dynamic TCAM Architecture with Transparently Scheduled Refresh
T. Koide, K. Dosaka, K. Arimoto, K. Fujishima, H. Noda, K. Inoue, H. J. Mattausch
pág. 622
pág. 630
pág. 639
pág. 640
pág. 646
Thermally Robust Nickel Silicide Process for Nano-Scale CMOS Technology
Y. J. Kim, H. H. Ji, S. B. Huh, H. S. Cha, U. S. Kim, J. S. Wang, S. Y. Oh, J. G. Yun, B. F. Huang
pág. 651
Separation by Bonding Si Islands (SBSI) for Advanced CMOS LSI Applications
H. Ohri, J. Murota, M. Sakuraba, T. Yamazaki, S. I. Ohmi, S. Morita
pág. 656
Effects of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization under Limited Ni-Supply Condition
pág. 662
Low Temperature Poly-Si Thin Film Transistor on Plastic Substrates
K. B. Park, J. S. Jung, J. M. Kim, Y. S. Park, J. Y. Kwon, D. Y. Kim, H. S. Y. Cho
pág. 667
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