Periodo de publicación recogido
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Tong An, Chao Fang, Fei Qin, Huaicheng Li, Tao Tang, Pei Chen
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Nº. 91-2, 2018, págs. 213-226
The experimental analysis and the mechanical model for the debonding failure of TSV-Cu/Si interface
Si Chen, Zhizhe Wang, Yunfei En, Yun Huang, Fei Qin, Tong An
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Nº. 91-1, 2018, págs. 52-66
Protrusion of electroplated copper filled in through silicon vias during annealing process
Si Chen, Fei Qin, Tong An, Pei Chen, Bing Xie, Xunqing Shi
Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Nº. 63, 2016, págs. 183-193
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