págs. 958-964
págs. 965-973
págs. 974-984
págs. 985-989
págs. 990-994
Evaluation of RF electrostatic discharge (ESD) protection in 0.18-µm CMOS technology.
X. Du, S. Dong, Y. Han, J.J. Liou, M. Huo, Y. Li, Q. Cui, D. Huang, D. Wang
págs. 995-999
Total ionizing dose effects in shallow trench isolation oxides.
F. Faccio, H.J. Barnaby, X.J. Chen, D.M. Fleetwood, L. Gonella, M. McLain, R.D. Schrimpf
págs. 1000-1007
págs. 1008-1014
págs. 1015-1020
págs. 1021-1026
págs. 1027-1032
págs. 1033-1039
págs. 1040-1051
págs. 1052-1061
págs. 1062-1068
Correlation studies for component level ball impact shear test and board level drop test.
E.H. Wong, R. Rajoo, S.K.W. Seah, C.S. Selvanayagam, W.D. van Driel, J.F.J.M. Caers, X.J. Zhao, N. Owens, L.C. Tan, M. Leoni, P.L. Eu, Y.-S. Lai, C.-L. Yeh
págs. 1069-1078
págs. 1079-1086
págs. 1087-1092
págs. 1093-1101
págs. 1102-1105
© 2001-2025 Fundación Dialnet · Todos los derechos reservados